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ポストシリコン半導体 : ナノ成膜ダイナミクスと基板・界面効果

エヌ・ティー・エス, 2013. <BB30180257>
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ポストシリコン半導体 : ナノ成膜ダイナミクスと基板・界面効果

エヌ・ティー・エス, 2013. <BB30180257>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 中央館 3F-東
 		549.8/PO 0312013150811 通常 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 中央館
配置場所 3F-東
請求記号 549.8/PO
資料ID 0312013150811
状態 通常
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 ポストシリコン半導体 : ナノ成膜ダイナミクスと基板・界面効果
ポスト シリコン ハンドウタイ : ナノ セイマク ダイナミクス ト キバン カイメン コウカ
出版・頒布事項 東京 : エヌ・ティー・エス , 2013.6
形態事項 2, 10, 510, 15p, 図版18p : 挿図 ; 27cm
巻号情報
ISBN 9784864690591
その他の標題 異なりアクセスタイトル:ポストシリコン半導体 : ナノ成膜ダイナミクスと基板界面効果
ポスト シリコン ハンドウタイ : ナノ セイマク ダイナミクス ト キバン カイメン コウカ
注記 文献: 各節末
学情ID BB12654468
本文言語コード 日本語
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