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Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood. -- Noyes Publications, 1990. -- (Materials science and process technology series). <BB00370515>
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Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions
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No.
巻号
所蔵館
配置場所
請求記号
資料ID
状態
返却予定日
予約
0001
中央館
2F-洋書
427.6/HA
0312008077070
通常
0件
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0001
巻号
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中央館
配置場所
2F-洋書
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427.6/HA
資料ID
0312008077070
状態
通常
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書誌詳細
標題および責任表示
Handbook of plasma processing technology : fundamentals, etching, deposition, and surface interactions / edited by Stephen M. Rossnagel, Jerome J. Cuomo, William D. Westwood
出版・頒布事項
Park Ridge, N.J. : Noyes Publications , c1990
形態事項
xxiii, 523 p. : ill. ; 25 cm
巻号情報
ISBN
0815512201
書誌構造リンク
Materials science and process technology series <BB00370516>//a
注記
Includes bibliographical references and index
学情ID
BA18754617
本文言語コード
英語
著者標目リンク
Rossnagel, Stephen M.
著者標目リンク
Cuomo, J. J.
著者標目リンク
Westwood, William D. (William Dickson), 1937-
分類標目
LCC:TA2020
分類標目
DC19:621.044
件名標目等
Plasma engineering
件名標目等
Semiconductors -- Etching
件名標目等
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