ホーム > 商品詳細

Plasma Etching:An Introduction '89

Manos, Dennis M., Flamm, Daniel L.  編
 絶版
       
価格 \18,597(税込)         

発行年月 1989年08月
出版社/提供元
出版国 アメリカ合衆国
言語 英語
媒体 冊子
装丁 hardcover
ページ数/巻数 476 p.
ジャンル 洋書/理工学/材料科学/材料科学:概論
ISBN 9780124693708
商品コード 0208829091
商品URL
参照
https://kw.maruzen.co.jp/ims/itemDetail.html?itmCd=0208829091

内容

Plasma etching plays an essential role in microelectronic circuitmanufacturing. Useful for researchers, process engineers, and students, thisbook introduces the physics and chemistry of electrical discharges andrelates them to plasma etching mechanisms. It offers practical examples ofprocess chemistry, equipment design, and production methods.

目次

カート

カートに商品は入っていません。